介质层淀积设备（SIH4+TEOS）-公开招标公告

招标公告1.招标条件本招标项目介质层淀积设备（SIH4+TEOS）（略）第二十四研究所，招标项目资金来自自筹资金，出资比例为100%。该项目已具备招标条件，现对介质层淀积设备（SIH4+TEOS）进行国内公开招标。
2.项目概况与招标范围2.1（略）：ZKX（略）A0222.2招标项目名称：（略）
2.3数量：1台。
2.4主要功能要求：该设备为国产全新8寸SIH4+TEOS混源的介质淀积设备，自带SMIF（或同类装置），RFID及EAP通讯功能，配置三个PECVDTWINChamber（2个SIH4腔，1个TEOS腔，所有腔室均配置LH+HF组件），拥有PEOX工艺、SRO工艺、SIN工艺、SRN工艺、SION工艺、FSG工艺和USG工艺等功能，每个Chamber拥有In-situN2plasma处理功能。
2.5交货地点：（略）
3.2业绩要求：（略）或同系列的设备从2020年至今的任意一年的销售业绩，且一年中累计销售量至少10台；须提供设备采购合同复印件，其内容须体现合同首页及签字或盖章页（合同供货方可以是本次投标人也可以是本次所投设备制造商）、合同签订时间、（略）。
3.3其它要求：本次招标接受代理商投标。投标人若为代理商，则须提供所投产品制造商的授权书。
3.4本次招标不接受联合体投标。
3.5投标人必须向招标代理：（略）
4.招标文件的获取：（略）
4.1凡有意参加投标者，请于2024年02月02日至2024年02月09日17时(北京时间)，（略）（网址：（略）.cn,注册操作咨询电话（略））购买并下载招标文件，现场不予受理。
4.2招标文件每套售价800元，售后不退。
5.投标文件的递交5.1投标文件递交的截止时间（投标截止时间，下同）为2024年02月26日9时30分，地点：（略）
5.2逾期送达的、未送达指定地点：（略）
6.（略）上发布。
7.联系方式：（略）
地址：（略）
招标代理：（略）