物理电子工程学院PVD500磁控溅射薄膜沉积设备采购竞价公告

项目名称：（略）
（略）CG（略）
公告发布日期2024/06/0811:04公告截止日期2024/06/0911:04
公告截止日期2024/06/0911:04
采购单位：（略）
付款条款合同生效后发货前预付50%，货到验收合格后支付50%
联系人：（略）
联系手机中标后在我参与的项目中查看
是否本地化服务否是否需要踏勘否
是否需要踏勘否
踏勘联系人：（略）
踏勘联系电话：（略）
踏勘地点：（略）
踏勘联系时间
采购预算￥193,000.00
送货/施工/服务期限合同生效之日起90日内
送货/施工/服务地（略）二
付款条款合同生效后发货前预付50%，货到验收合格后支付50%
其他说明1、货物服务类竞价项目，进口产品收取成交金额3%的履约保证金，特殊情况另行约定。
采购清单
1
（略）计量单位：（略）
PVD500（略）台1
售后服务质保1年。
技术参数要求PVD500磁控溅射薄膜沉积设备。设备极限真空度：≤5x10-5Pa(经烘烤除气后)；30分钟可达到5x10-4Pa；5个2英寸溅射靶枪，镀膜时工作真空度：0.1～10Pa；加热方式：（略）
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