(略)受招标人:
(略)
1
(略)1套(1)真空室尺寸:≥Ф800mm×1000mm,被镀工件
(略)高度范围大于550mm。有效
(略)域≥Φ500mm×500mm,范围内薄膜的厚度不均匀性小于10%,为保证工件镀膜过程及薄膜质量的稳定性(结构与性能偏差不超过15%)。(2)溅射靶位及电源:配备6个孪生矩形非平衡磁控溅射靶,采用封闭场设计,工件离子流密度不低于7mA/cm2,配备2套双输出脉冲直流电源(10*10kw)和1套双输出直流电源(6*6kw),可单独控制每个磁控溅射阴极,电流控制精度为0.1A;配备脉冲偏压电源一台。电压控制精度为1V,实现0-750V可调;所用电源均应选用相当于AE公司原厂产品,配备两台射频溅射阴极电源及匹配器,功率1kw可用于陶瓷类等镀层研究。/
3、投标人资格要求投标人应具备的资格或业绩:投标人必须是投标产品的制造商或投标产品的制造商授权的代理商,如为代理商需提供制造商针对本项目的授权书;是否接受联合体投标:不接受未领购招标文件是否可以参加投标:不可以4、招标文件的获取:
(略)
关注微信公众号 免费查看免费推送
|
上文为隐藏信息仅对会员开放,请您登录会员账号后查看, 如果您还不是会员,请点击免费注册会员
【咨询客服】 |
王智芬 |
|
【联系电话】 |
19235653958 |
【客服微信】 |
19235653958 |
|