磁控溅射仪采购项目成交公告

Print南方科技大学SUSTech-JC-（略）竞采结果公告项目名称：（略）
（略）SUSTech-JC-（略）
项目类型货物类
成交方式：（略）
公示时间本公告自发布之日起三日
（略）
成交金额(元)400000.00
成交理由最低价成交
预算(元)490000.0
项目预算是否含税国产含税
备注
响应情况采购明细
（略）名称：（略）
1
磁控溅射仪（核心货物）
1
套
400000.0
400000.0
是否接受进口
拒绝进口
品牌
（略）
（略）
MGDT-1
生产厂商
（略）
产地信息
（略）二层
技术规格及参数
1.溅射室极限真空度：≤6.0x10-5Pa(经烘烤除气后)；真空获得采用FF150/700分子泵和优质机械泵（RVP-9,9L/S）+CF150电动插班阀，此配置具有抽速快，可获得高真空环境，提供薄膜的洁净度。系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S；系统从大气开始抽气：溅射室25分钟可达到7x10-4Pa；系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa2，溅射室中配有3套国产50mm高性能永磁共焦磁控溅射靶（其中含一个强磁靶,各溅射靶距离可调），靶材尺寸：Ф50mm。分布在一个圆周上，各靶可独立/顺次/共同工作，磁控靶通水冷却，采用磁控靶在上，垂直向下溅射成膜，磁控靶RF、DC、MF兼容，可以溅射磁性材料，磁控靶配有气动挡板截流结构。磁控靶与基片的距离可调，调节距离为：60~90mm。3.样品台布置在真空室底部，可放置最大直径100mm样品，样品具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调。4.加热装置在真空室上法兰上，对基片托板进行加热，通过热电偶控制控温电源实现闭环控制，系统由加热器和1个加热控温电源组成，加热电源配备日本进口控温表，控温方式：（略）
质保期
质保期为一年
售后要求
1、设备安装、调试和验收:在合同生效后的1个月内向用户提供详细的安装要求并提供技术咨询;仪器到达用户指定交货地点：（略）
付款方式：（略）
交货期合同签订后30天（自然日）内，具体时间根据学校要求提前7天（自然日）通知送货