高真空磁控溅射薄膜沉积系统

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宁波大学-竞价公告(CB（略）0852)
发布时间：（略）:49:52截止时间：（略）:30:00
基本信息：
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报价要求：国产含税
发票类型：增值税专用发票
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送货时间：发布竞价结果后7天内送达
安装要求：免费上门安装（含材料费）
预算：******人民币
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品牌:中国科学院沈阳科学仪器;型号:TRP450F
真空腔室采用前开门，选用优质不锈钢，牌号不低于304，电解抛光、钝化处理溅射室极限真空度≤3x10-5Pa(经烘烤除气后)溅射室25分钟可达到5x10-4Pa系统停泵关机12小时后真空度≤10Pa（略），含一个强磁靶。靶大小为50.4mm，各靶可独立/顺次/共同工作，包含500WDCpower*2、500WRFpower*1电源和靶可自动切换，各靶含独立旋转气动控制挡板组件置样装置；4英寸样品加热炉温度：室温～800°C，精度:±1°C；样品台可加负偏压-200V；膜厚不均匀性优于±5%（略）气体（Ar、O2、备一），二套质量流量控制器，精准度1.5%
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