XPUTTER-LAB离子束微纳加工实验平台离子源系统（XF-WSBX-2400315）采购公告

项目名称：（略）
公告开始日期（略）公告截止日期（略）
采购单位：（略）
联系人：（略）
签约时间要求成交后7个工作日内到货时间要求成交后3个工作日内
预算总价￥495000.0收货地址：（略）
供应商资质要求符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件
采购清单
采购商品采购数量计量单位：（略）
XPUTTER-LAB（略）（略）1台光学式分析仪器
预算单价￥495000.0
（略）（略）一套，包含两个相互配合工作的射频离子源（溅射源和刻蚀源），离子源口径分别为50m（5cm）和120mm（12cm），（略）为一体化控制。具体参数：1.溅射源：离子束有效束径：5cm栅网类型：（略）阴极类型：中空阴极屏栅极电压：纯Ar电压范围：150-800V离子能量最大值：纯Ar800eV屏栅极电流：纯Ar电流范围：20-80mA加速极电压：范围100-800V允许气体类型：Ar，O2（保证操作安全情况下，可兼容其他气体）中和器允许气体类型：Ar气体流量计规格：50sccm（O2），50sccm（Ar），50sccm（Ar，中和器专用）背景真空：≤9.0x10-3Pa最大工作压力：1.33x10-1Pa气体纯度：Ar纯度要求99.999%，O2纯度要求99.99%冷却水：流量1.5L/min，温度16-24°C，离子源出水口和入水口压力差＞3.5kg接地要求：接地电阻不大于4Ω，建议单独接地安装孔位要求：ISO200法兰+1个32mm圆通孔或其它定制方式：（略）
（略）点:当地;电话支持:7x24小时;质保期:1年;服务时限:报修后2小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品;