一、项目信息
采购人:
(略)
项目名称:
(略)
拟采购的货物或者服务的说明:
(略)1套
拟采购的货物或服务的预算金额:280.000000万元(人民币)
采用单一来源采购方式:
(略)
(略)-LTF团队本次拟采购的1
(略)用于在量子芯片制备工艺中,需要去除器件中二氧化硅牺牲层来释放微结构,使器件处于悬空状态。
(略)以气相氟化氢为刻蚀气体,释放速率≥0.1um/min,选择比SiO2:Al>300:1,刻蚀片内均匀性波动≤5%(1σ),片间重复性波动≤5%(1σ),样片工作台温度可控范围为5℃至45℃,可配置非分散式红外分析气体传感器进行终点监控能力,可兼容最大直径200mm圆片和小片。
经全球调研,采用气相氟化氢刻蚀气体,来实现去除器件中二氧
(略),
(略)和美国SPTS
(略)能生产满足需求的成熟的设备,但由于美国厂家SPTS公司的设备没有配置刻蚀终点监控装置,且出口受美国政府管控,厂家无法供货给量子院。
(略)的设备拥有自主知识产权,对硅衬底,金属以及低应力氮化硅等都有非常好的选择性,此外,该系统配置刻蚀终检监控装置,可准确控制释放工艺终点,且能正常供货。
综上所述,
(略)是市场上唯一能生产出以实现氟化氢气相、高选择比释放二氧化硅牺牲层的厂家。东方诺达(北京)
(略)是厂家授权在大陆唯一代理供货商,因此申请单一来源方式:
(略)
二、拟定供应商信息
名称:
(略)
地址:
(略)
三、公示期限
2024年07月18日至2024年07月25日
四、其他补充事宜:
专家论证意见及专家姓名、工作单位:
(略)
(略)原因,其他未尽事宜及公告显示内容与附件不同的,以附件为准。
(略)发布。
五、联系方式:
(略)
1.采购人:
(略)
联系人:
(略)
地址:
(略)
联系方式:
(略)
2.财政部门
联系人:
(略)
联系地址:
(略)
联系电话:
(略)
3.采购代理机构:
(略)
名称:
(略)
地址:
(略)
联系方式:
(略)
公告概要:公告信息:
采购项目名称:
(略)
品目货物/设备/仪器仪表/其他仪器仪表
采购单位:
(略)
(略)域
(略)公告时间2024年07月18日15:49
预算金额¥280.000000万元(人民币)
联系人:
(略)
项目联系人:
(略)
项目联系电话:
(略)
采购单位:
(略)
采购单位:
(略)
采购单位:
(略)
(略)
(略)20层
代理机构:
(略)
附件:
附件1
(略)-单一来源论证.pdf
附件2OITC-G
(略)(略)单一来源公示.pdf
如果附件下载后没有后缀,无法打开,请查看您点击的那条公告名称:
(略)
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