中电商务(北京)
(略)受招标人:
(略)
(略)ZLCP10001/04阵列干刻装置4台设备用途及基本要求:本设备用于阵列制程中,当玻璃基板成膜(a-Si、N+、SiNx、SiO2)形成光阻图案后,以干法刻蚀加工为目的,它具有以下功能:◇设备内真空排气功能。◇设备内的基板向各腔室真空搬送功能。◇原料气体分解成等离子体,对成膜后(a-Si、N+、SiNx、SiO2)的基板进行刻蚀的功能。◇设备内进行大气Vent的功能。要求该设备结构设计合理,采用先进成熟技术,
(略)具有良好的动态品质。
(略)执行元件精度高,可靠性好,响应速度快。设备使用、操作、维修方便,造型美观,结构紧凑,整机运行稳定可靠,售后服务优良。CNY25000/USD4050
3、投标人资格要求投标人应具备的资格或业绩:投标人应是响应招标、已在招标机构处领购招标文件,并参加投标竞争的法人或其他组织。凡是来自中华人民共和国或是与中华人民共和国有正常贸易往来的国家
(略)(美元):
关注微信公众号 免费查看免费推送
|
上文为隐藏信息仅对会员开放,请您登录会员账号后查看, 如果您还不是会员,请点击免费注册会员
【咨询客服】 |
朱婷婷 |
![](/upload/replace/2024-07-05/20240705093507_d0UAwt.jpg) |
【联系电话】 |
15385137696 |
【客服微信】 |
gczbzhu |
|