甬江实验室采购低压化学气相沉积设备项目国际招标澄清或变更公告（1）

澄清或变更简要说明：1、“表B技术规格表”中如下技术参数变更：1.1、“序号（略）”原为：2根LPCVD炉管分别配备2台干泵（干泵参考品牌：Edwards、Ebara或Pfeiffer），投标人需在投标文件中注明所投干泵的品牌，现变更为：2根LPCVD炉管配备2台干泵（每根一台）（干泵参考品牌：Edwards、Ebara或Pfeiffer），投标人需在投标文件中注明所投干泵的品牌；1.2、“序号（略）”原为：LPCVD炉管本底真空≤5mtorr，漏率≤6mtorr/min，从大气状态抽至本底真空时间≤8min（管路长度小于3m，且无弯曲），现变更为：LPCVD炉管本底真空≤5mtorr，漏率≤6mtorr/min，从大气状态抽至本底真空时间≤8min（管路长度小于3m，且无弯曲条件下）；2、投标截止时间（开标时间）原为：2024年9月4日9时00分（北京时间），现变更为：2024年9月12日9时00分（北京时间）。3、邮寄递交截止时间原为：2024年9月3日16：00，现变更为：2024年9月11日16：00。4、投标保证金截止时间原为：2024年9月3日16：00，现变更为：2024年9月11日16：00。（略）受招标人：（略）
1低压化学气相沉积设备1套在低压下进行的CVD反应，主要用于在晶圆表面形成一层连续密闭的薄膜。真空下的气体可以被更精确的控制、反应氛围更为洁净、分子自由程加长更利于均匀性，并且可兼容退火热处理工艺。设备可自动上下晶舟，能够同时完成微纳器件、微纳光学器件等所需的多晶硅、厚氧化硅、氮化硅的沉积，并且可以完成退火工艺。
3、投标人资格要求投标人应具备的资格或业绩:投标人必须是投标产品的制造商或投标产品的制造商授权的代理商，如为代理商需提供制造商针对本项目的授权书是否接受联合体投标:不接受未领购招标文件是否可以参加投标:不可以4、招标文件的获取：（略）